Бургаски Държавен Университет "Проф. д-р Асен Златаров"
Влезте в профила си за пълен достъп до възможностите на Eclipse.
Вход
Каталог "Книги"
Технологии за взривно изпарение и катодно разпрашаване за получаване на резистивни NiCr - слоеве с малък разброс и нисък ТКР.Предназначени за използване на ХИС и чип - резистори
Технологии за взривно изпарение и катодно разпрашаване за получаване на резистивни NiCr - слоеве с малък разброс и нисък ТКР.Предназначени за използване на ХИС и чип - резистори. Бургас: ВХТИ, 1985 64 с. : с ил.
Технологии за взривно изпарение и катодно разпрашаване за получаване на резистивни NiCr - слоеве с малък разброс и нисък ТКР.Предназначени за използване на ХИС и чип - резистори. Бургас: ВХТИ, 1985 64 с. : с ил.
(1985) Технологии за взривно изпарение и катодно разпрашаване за получаване на резистивни NiCr - слоеве с малък разброс и нисък ТКР.Предназначени за използване на ХИС и чип - резистори, Бургас: ВХТИ 64 с. : с ил.
(1985). Технологии за взривно изпарение и катодно разпрашаване за получаване на резистивни NiCr - слоеве с малък разброс и нисък ТКР.Предназначени за използване на ХИС и чип - резистори. Отчет на тема N 4/85. Бургас: ВХТИ, 64 с. : с ил.
Технологии за взривно изпарение и катодно разпрашаване за получаване на резистивни NiCr - слоеве с малък разброс и нисък ТКР.Предназначени за използване на ХИС и чип - резистори: Отчет на тема N 4/85. Бургас: ВХТИ; 1985. p. 64 с. : с ил.